光毒反应性药疹的特点不包括

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光毒反应性药疹的特点不包括

  • A.多发生于曝光后7~8小时珍庄栋痰光乘
  • B.只出现在曝光部位胡秘呈童织
  • C.任何人均可发生额哭球焰槽堆明检装
  • D.皮疹与晒斑相似劲禾
  • E.有一定潜伏期斧摔其孔叉歉合签

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