上颌两侧磨牙全部缺失,设计支架式可摘义齿修复,为防止义齿下沉压迫黏膜,制作时要求

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上颌两侧磨牙全部缺失,设计支架式可摘义齿修复,为防止义齿下沉压迫黏膜,制作时要求

  • A.腭杆中部与模型应有0.8~1mm距离亡妙牺遣授漆
  • B.腭杆中部与模型应有1.2~1.5mm距离恐扰外
  • C.腭杆中部与模型应有0.1mm距离野及
  • D.腭杆中部与模型应有0.3~0.5mm距离严赚管纪暂赠柱珍跃
  • E.腭杆中部与模型应完全贴合炉姨卫尘编倒咱眉滔

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