读片分析头颅CT平扫(见图15-1)示左额叶等、高混合密度肿块,形态不规则,边界尚清晰,肿块周围见不规则指状水肿带,双侧脑室前角受压狭窄,中线结构向右侧偏移。
头颅横断位MR检查T
W像(见图15-2)示左额叶不规则形低信号病灶,内部信号不均匀,病灶向右侧侵犯胼胝体。横断位T
W像(见图15-3)示右额叶不规则形等高信号病灶,病灶周围环绕指状水肿带,病灶内部信号不均匀,可见小斑片状高信号影,病灶跨越胼胝体向对侧生长,使双侧脑室受压狭窄,中线结构右偏。横断位MRT
W增强扫描,如图15-4所示,病灶明显不均匀强化,呈多环状强化,病灶在胼胝体处相连续,增强环不规则厚薄不均,呈花圈状,环壁连续,周围水肿区不强化。该患者的诊断是什么?您可能感兴趣的相关话题
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