
0mm。上中切牙外翻,上牙列拥挤4mm,下牙列拥挤4.5mm。X线头影测量为:SNA80°,SNB76°,U1/SN105°,L1/MP 94°,SN/MP43°。软组织侧貌为直面型。上下唇突点至审美平面的距离分别为2mm和1.5mm。该患者支抗设计的正确叙述是您可能感兴趣的相关话题
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