患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是

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患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是

  • A.取下腭杆七林
  • B.腭杆组织面缓冲堵辨立检囊杰
  • C.腭杆组织面加自凝树脂重衬谋痕
  • D.不做任何处理仙磨险添
  • E.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆厅饿馆你乐夹晚净

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