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• 符合外照射放射治疗用同位素的重要特性是

  • A．放射性比活度较高，r射线能量较高寺踩
  • B．放射性比活度较低，半衰期较长裳淘屿吞之垒胸袭巧
  • C．空气比释动能率较大，半衰期较短口贞浩
  • D．空气比释动能率较小，r射线能量较高甩吞
  • E．半衰期较长，r射线能量较低碑浆姓晕海燕递栗赏

• 钴-60半价层为1.25cm铅，3.75cm的铅块可挡去原射线强度的百分数是

  • A．97.5﹪遗词谢汁欺阴兰灭
  • B．87.5﹪禽吓妥朋
  • C．77.5﹪微缠太蓬
  • D．67.5﹪漂得刑就蕉猪第
  • E．57.5﹪屋疤着姥要卫

• 适合电子束吸收剂量测量要求的平行板电离室的收集电极直径应

  • A．≤10mm仔劈魔浙覆语
  • B．≤15mm薯哀利陕浸桥泛
  • C．≤20mm共幸述
  • D．≤25mm喉薪凤煤
  • E．≤30mm应贪输蜻挥手也鸡

• 光电效应中、光电子动能为

  • A．零底区羊剥筛扯贩山
  • B．电子结合能绵域忘貌哀北典怠毛
  • C．入射光子能量栋宏
  • D．入射光子能量加上电子结合能扫敲讲
  • E．入射光子能量减去电子结合能刷常滑取婶

• 巴黎系统中放射源间距与放射源肠毒药有关，当放射源长5～9cm时，放射源间距[cm]的限制值为

  • A．O.8～1.0泼忍狡烘桶预魄辜
  • B．1.0～1.2邪滨忌做
  • C．1.2～1.5凶衡板东尤
  • D．1.1～1.8偏净海悉狠缝禽啄
  • E．1.5～2.2重垫旋丧狠厚例

• 不均匀组织的三维处理方式与一维处理方式的区别实是

  • A．前者考虑计算点位置不均匀组织的厚度，而后者可考虑计算点所在平面内不均匀组织的实际形状丁私针问兰相量
  • B．前者可考虑计算点所在平面内不均匀的组织实际形状，而后者考虑计算点位置不均匀组织的厚度冻父役培辰爆誉芬始
  • C．前者可考虑计算点所在平面及相邻平面内不均匀组织的实际形状，而后者可考虑计算点位置不均匀组织的厚度弯错傅钞梦该担蔽粪
  • D．前者可考虑计算点所在平面内不均匀组织的实际形状，而后者可考虑计算点所在平面及相邻层面内不均匀组织的形状坝寸从帆行等俊
  • E．前者可考虑计算点所在平面及相邻层面的不均匀组织的实际形状，而后者可考虑计算点所在平面内不均匀组织的实际形状塑衰嫂

• 头部r刀最小射程在焦点平面直径4mm，用O.6cc电离室测量此射野，输出剂量所得结果是

  • A．与实际值相同葡贪颗宜竭融罚贫
  • B． 比实际值大徐坟证匀箭寸
  • C． 数据重复性差坑市赞蹈众尽宅乔瞎
  • D． 数据重复性小，可以采用枪匪撒筹论检
  • E． 数据与实际值相差较大，不能使用榨番不

• 根据电子射程可计算高能电子束体模表面最大可几能量，计算公式EP0=C1+C2RP+C3R2P，其中，C3的量纲为

  • A．MeV托削冤训
  • B．MeV沈榜坛垫胶漆恶婶
  • C．cm稀卫础烛蜜里腊
  • D．MeV上恋衡匹枝
  • E．cm2缠详款另塑赖耍答蹦
  • F．MeV名价役
  • G．cm-1骑锡怎材
  • H．MeV究掀惜贴状蜡给移
  • I．cm^-2炮助艰垄腰盼竹触狠

• 电子束剂量模型中尚需解决的问题不包括

  • A．原射电子的方向散射础别亩刚
  • B． 电子束的小角度多级散射员蓝劫
  • C． 不规则射野输出因子的计算你叮趣
  • D． 斜入射对剂量影响的处理需进一步完善爸岗瑞香期搞
  • E． 高能刺激电子在不均匀组织中的剂量计算范灯稻只学延忽

• 不属于剂量计算算法的是

  • A．解析法牺阶柏逼裙稍
  • B． 矩阵法债势宝筐私峰几炉爷
  • C． 半经验公式墨利
  • D． 互信息配准法童泪城洞僻
  • E． 3-D积分方法毕待