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• 关于GM计数器的说法，正确的是

  • A．初级离子数与探测器体积内带电粒子轨迹上沉积的能量成正比落音劳岭镰储
  • B．适合测量低强度辐射场，每次相互作用中收集到的电荷量与探测器内气体中沉积的能量成正比抽迁橡程拥互剥朗
  • C．测量仪的壁内侧，通常附加一层硼化合物，或者测量仪内充BF3气体鹰宝鹰北酱贱情
  • D．适用于泄露测试和放射性污染的探测畏催追寄
  • E．有很高的体积电阻抗[如CdS、CdSe]，该类探测器在辐射场中接受照射时工作原理与固态电离室相似牧如蓄缸为蛋庆

• 在确定图像旋转、平移参数的技术中，最简单直接的技术是

  • A．特定点相互对应技术僻郑
  • B．直接或曲线标志变换技术援至梢滋放侨俯疾
  • C．曲面变换技术咱晋护螺筝美
  • D．体积变换技术摘处
  • E．交互或变换技术箭盯敏截蛛浓奸之港

• PDD定义为哪一地点某一深度处的吸收剂量率与参考点处剂量率之百分比

  • A．源轴距辱粪衣湖端园
  • B．源皮距帅做劫榆非
  • C．射野中心轴馒概馋风说劲
  • D．源瘤距含根哥
  • E．皮下委餐记迷鱼恨恶延迫

• 关于靶区适合度的描述，正确的是

  • A．靶区适合度定义为处方剂量与计划靶区表面相交的处方剂量面包括的体积与对应的临床靶区体积之比璃闯打祖
  • B．对圆形或椭圆形靶区，旋转照射野的靶区适合度最差缝跟萍示虽攀始惕
  • C．对圆形靶区，多野交角照射比旋转照射的靶区适合度更好端钉击丧
  • D．对矩形靶区，沿长、短边布置的两对对穿野的靶区适合度比三野交角照射好盯名敬挽配沾尖
  • E．当靶区表面沿射野方向到皮肤表面的有效深度呈一维线性变化时，两野垂直交角加楔形板亦可取得较好的靶区适合度鼓匹衬扯卷译忧急

• 可以用于立体定向放射手术的放射源不包括

  • A．钴-60γ射线弄限足辆聚鼓摸灾践
  • B．高能X线姻脉甘宋浇书
  • C．质子束拥渐袍理户镇话宅渡
  • D．重离子束梢喘馋菜弊蚂开效榴
  • E．电子线灯晕读杆

• 实际应用中，能量低于多少的光子和β辐射被定义为弱贯穿辐射

  • A．5KeV辜度滤轨射域贝
  • B．10KeV浇逮
  • C．12KeV上跪谦
  • D．15KeV谊蔽衬巴邻餐狭
  • E．20KeV柱秒挂咱

• 根据比释动能的定义K=De/dm，有关dE的描述，正确的是

  • A．是X射线在dm的介质中，转移给次级电子的能量，这些次级电子必须在dm中耗尽其动能戏鸡兆吃平
  • B．是X射线在dm的介质中，转移给次级电子的能量，这些次级电子必须在dm外耗尽其动能却传邪惜切欢
  • C．是X射线在dm的介质中，转移给次级电子的能量，无论这些次级电子在哪里耗尽其动能久法卜紫坡滋民游斧
  • D．是X射线在dm的介质中，转移给次级电子，并由次级电子用来电离激发介质的能量鉴低粱使森
  • E．是X射线在dm的介质中沉积的能量潮橘偷涨

• 中子主要由加速器的治疗头产生，其中哪项所占比例最大

  • A．X射线的靶揉程锈秆抢嘱人炭哥
  • B． 一级准直器愧各情漏莫缸勿曲孩
  • C． X射线均整器窝该召
  • D． 治疗准直器家猴预扇棉依卵哥
  • E． 托盘哭醋治郑达

• 剂量校准稳定性为

  • A．1﹪互鞭页凝
  • B．2﹪忙降试洗注采科
  • C．3﹪胸具旗罚短终青衬
  • D．4﹪拐眯
  • E．5﹪框雹雀月歪奔信

• 对立体定向手术[单次治疗]的描述，错误的是

  • A．处方剂量12～25Gy，病灶越大，处方剂量越小嚷填蓄
  • B．主要适用于功能性失调、血管畸形，一些良性肿瘤和远处转移病灶的治疗哪钩保法觉待
  • C．偶尔用于恶性颅内肿瘤常规放射治疗后的剂量推量夜迅泳种甜式
  • D．处方剂量为O.5～5Gy，病灶越大，处方剂量越小伤次元锡驱磁首
  • E．可以应用于脑垂体瘤的治疗挥醉刻加汇绪金