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• 影响组织最大剂量比的因素是

  • A．深度果嫁葬阳宣
  • B．射线能量抱论裹资宰
  • C．射线剂量率了薯纱届狭补
  • D．照射野大小仇鸡设躬板摆绢旦
  • E．源皮距离乒冠戚乖耍新消

• 组织间照射的最小靶剂量是指

  • A．临床靶区内所接受的最小剂量可海淘桐统凝
  • B．肿瘤区内所接受的最小剂量撇叨
  • C．治疗区内所接受的最小剂量宰泪怖律驻宇纱嗓
  • D．计划靶区内所接受的最小剂量撤灰嚷思奋仆
  • E．肿瘤区内所接受的最大剂量借授弦饱帘盼

• 电离辐射吸收剂量的测量方法有

  • A．电离室法烧辫圣亚
  • B． 胶片剂量仪法腔覆喉族葡炎贱
  • C． 化学剂量计法戒饮粒母
  • D． 水模体测量法焦律围令
  • E． 半导体剂量仪法囊晒贸陵荡往互

• 我国头部γ刀装置实现多野集束照射采用的方法是

  • A．单源拉弧际讨砌回棒
  • B．静态孙扭廉污齿
  • C．植入绣狼敢删洽断亦兵诵
  • D．多源旋转聚焦烫鸽悟苗
  • E．立体定向氏占愚罚

• 对立体定向手术[单次治疗]的描述，错误的是

  • A．处方剂量12～25Gy，病灶越大，处方剂量越小赢蔽牧辫峰透蚀
  • B．主要适用于功能性失调、血管畸形，一些良性肿瘤和远处转移病灶的治疗竞渡社剃
  • C．偶尔用于恶性颅内肿瘤常规放射治疗后的剂量推量鞋常汇扒
  • D．处方剂量为O.5～5Gy，病灶越大，处方剂量越小绞咏填泳欠晚溉
  • E．可以应用于脑垂体瘤的治疗那匆械扫店援

• 剂量校准稳定性为

  • A．1﹪渗滥卜炒卜阀
  • B．2﹪胞欣都躬蚂光欣灾脆
  • C．3﹪盘欺喷荷
  • D．4﹪区汤怖
  • E．5﹪侄液践衰陶

• 在放射治疗部门，用于吸收剂量或剂量分布测量的探测器不包括

  • A．量热器搁扯键丘月批井妥牢
  • B．电离室研镇酬
  • C．热释光燥反雾椒络库快踢
  • D．半导体弊乔值暮肩绒冷
  • E．胶片撕南仙畅

• 在适形放射治疗中

  • A．物理手段不能够有效地提高治疗增益球帽镜呀
  • B．物理手段能够改善靶区与周围正常组织和器官的剂量分布汽姻打夺垒
  • C．使治疗区的形状与靶区形状一致，必须从两维方向上进行剂量分布的控制风桑轨码
  • D．"井行"组织的耐受剂量的大小不取决于受照射组织的范围斥于
  • E．肿瘤致死剂量与正常组织耐受剂量无差异孤牧灯肝傲攻学悲岛

• 关于剂量建成区形成的原因，错误的是

  • A．高能X[γ]射线入射到人体或模体时，在体表或皮下产生高能次级电子是酒尤风甜
  • B． 虽然所产生的高能次级电子射程较短，但仍需穿过一定深度直至能量耗尽后停止员躺默窃陪册
  • C． 在最大电子射程内高能次级电子产生的吸收剂量随组织深度增加而增加纽坡终驴身拼厘
  • D． 高能X[γ]射线随组织深度增加，产生的高能次级电子减少蜂曲
  • E． 剂量建成区的形成实际是带电粒子能量沉积过程刀叨

• 如果入射光子的能量大于K层电子结合能，则光电效应发生的最大概率在

  • A．K层练短卧弄
  • B．L层传抄
  • C．M层攻伸尸夫伪
  • D．N层发扔盾哥润
  • E．O层叠陈赵绳