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• 近距离治疗放射源强度校准最好使用

  • A．指形电离室渠亏苏楚
  • B．半导体探测器踢坟晚
  • C．井形电离室暂苗素
  • D．闪烁计数器恩蛾恢更待映沿宵
  • E．正比计数器掘肢把

• 当电子直线加速器的能量超过6MV时、加速管太长而不能直立安装时、需要使用

  • A．放大线圈舞压剩概电厦伪
  • B．四端环流器筑屋睛
  • C．均整滤过器福沫枯敲盼抢
  • D．电子散射箔情溜旋
  • E．偏转磁铁古仗建陕娘修叔芦

• 电子直线加速器中电子束偏转系统的方式包括

  • A．12.5°偏转签庆
  • B． 45°偏转恩轧变职峡泥
  • C． 90°偏转宴娃纠丢炉左尝
  • D． 112.5°[滑雪式]偏转粘葬姓球战锣性至
  • E． 270°[消色散]偏转咽歇

• 有关TBI射线能量的选择，以下不正确的是

  • A．原则上所有高能X[r]线均能作全身照射拥盾转
  • B．TBI的剂量分布受组织侧向效应的影响肃剑约
  • C．TBI的剂量分布受组织剂量建成区的影响湿尖雅衣处赌
  • D．体中线与表浅部位间剂量的比值不随能量变化涉篮著践郑截挽
  • E．选择侧位照射技术，至少应用6MV以上的X射线墙治季院忽积赏巾

• 巴黎系统中放射源间距与放射源肠毒药有关，当放射源长5～9cm时，放射源间距[cm]的限制值为

  • A．O.8～1.0鄙逢圾笋故
  • B．1.0～1.2怜总劣僻妙渔升挎踏
  • C．1.2～1.5蹦由骗人
  • D．1.1～1.8梁膛森虫
  • E．1.5～2.2挪八触

• 调强放射治疗中，MLC正确的选择是

  • A．MLC静态调强时，叶片宽度无要求随垃轰遍可窄恒谷芳
  • B．MLC静态调强时，不必考虑叶片运动速度问题否国狗赶葵泄
  • C．MLC静态调强对剂量率稳定性的要求比动态调强要高漏因
  • D．MLC叶片到位精度只影响射野边缘的剂量分布，MLC选择不予考虑铜创段辰件僚相
  • E．选择MLC要考虑小跳数时射束输出的特性查沟总疗舞你扒卸

• 用来定义细胞的增殖周期的两个时段是

  • A．G1期启卸木唤屯讽己首
  • B． G2期部旗霸功絮悔胞刺监
  • C． M期捧赵辛济谨弹动法妖
  • D． N期轰猜曾
  • E． S期书我

• 在照射野中加上楔形板之后，受其影响最大的剂量参数是

  • A．反散射因子吉器苹
  • B． 百分深度剂量钥优鬼柄苍吧
  • C． 组织空气比杏键堵观颈
  • D． 组织最大剂量比咏戒稼碑盼
  • E． 输出剂量率进文划掉玉罚均

• 新一代Lekshellγ刀所用钴源数量是

  • A．1个大陡动吵
  • B．30个俯昂般卵弊薄
  • C．128个蜂坛幅送付右
  • D．201个吸累
  • E．256个页膊哄鸦

• 根据电子射程可计算高能电子束体模表面最大可几能量，计算公式EP0=C1+C2RP+C3R2P，其中，C3的量纲为

  • A．MeV堂滩心公幅壶昏
  • B．MeV粮巾万况扎扯
  • C．cm升税辞弹护夸
  • D．MeV丘控爪卡描耻可候
  • E．cm2临兰帝
  • F．MeV卧剂吩机别哗
  • G．cm-1飞米
  • H．MeV绢止
  • I．cm^-2捡占旺肾仇朱队爆胡